蝕刻加工中曝（pù）光值對蝕刻的影響

      蝕刻加工的流程中曝光是一個重要的工藝，曝光是將需要蝕刻加（jiā）工的圖案通（tōng）過光繪的方式轉（zhuǎn）移到菲（fēi）林（lín）膠片（piàn）上，或者通（tōng）過光刻刻在玻璃（lí）菲林上，再通過機（jī）器或者人工對位（wèi）將（jiāng）菲林對（duì）位（wèi），再將經過塗布的金屬片材放置與兩張菲林膠片中間，吸（xī）氣後就可以曝光顯影了。

      曝光時間不夠，在顯影過程中，膠膜溶脹變軟，色澤暗淡、圖案不清晰，進入蝕刻流程時容易翹（qiào）膜、滲鍍、掉落；曝光過度時，會（huì）導致（zhì）膠膜（mó）發（fā）脆（cuì）、難於顯影、殘膠遺留等問題。曝光（guāng）時會導致線寬偏差，影響蝕刻精度，過量曝光會使圖（tú）案線條變細。所以曝光是非（fēi）常重要（yào）的環（huán）節，直接（jiē）影響到蝕刻產（chǎn）品的（de）精度、質（zhì）量。